ASTRA-S 是一款基于磁控溅射技术、采用水平基板装载的真空镀膜系统，专为实验室及小规模生产设计。其基本配置的工作方式类似于批次式镀膜机，也可选配为在线模式，实现具有预设节拍时间的连续化生产。

• 设备结构：镀膜系统由一个装载台以及真空腔体 (包括负载锁腔和工艺腔) 组成，所有部件均安装于洁净室内。标准为单端设计，可选配双端设计，实现两侧分别装卸载，并以预设节拍时间进行在线模式镀膜。

• 设计理念：1. 打造一台小型镀膜设备，能够精确复现大规模生产用在线镀膜机的相同工艺条件，最大限度减少量产调试时间；

  2. 提供可随客户业务发展而逐步升级的解决方案，从实验室研发起步，未来可改造升级为高产能的生产型镀膜机。

• 工作原理：基板装载于传输载具上，经真空负载锁进入工艺腔室 (溅射区域)。在工艺腔室内，载具在磁控管系统前进行扫描运动，以获得所需的镀层厚度。

• 可选镀膜工艺 / 设备：离子束清洗系统、射频 (RF) 等离子清洗系统、平面磁控溅射单元 (直流 DC 或交流 AC)、圆柱旋转磁控溅射单元 (直流 DC 或交流 AC)、射频 (RF) 磁控源、光学监控系统

• 适配基板类型：玻璃、PET (或其他塑料薄膜)、其他材料可按需求定制

• 生产效率：基础版本采用 "扫描模式" 运行，生产效率取决于镀膜层数 (扫描次数)；可通过增加额外的工艺腔室和末端负载锁腔实现设备扩展，升级为生产型镀膜机。