高生产率高精度光学元件的离子光束溅射系统

本装置为用于高精度光学的离子束溅射 (IBS) 真空系统，真空系统配备射频离子束溅射源、用于清洗和辅助的射频离子束源以及射频中和器。宽带单波光学监控系统允许以全自动模式执行工艺过程，并显著提高系统产量。使用干式 (无油) 泵送系统、超高真空镀膜机设计以及带有机械臂用于供给基片的真空室，可实现工艺过程的最大纯度。

• 工艺设备：射频离子束溅射源、射频放电中和器、清洁和辅助的高频射频离子束源

• 使用示例：激光抵抗涂层、极化镜、分束镜、光纤涂层、低缺陷和低光学损耗涂层、窄带滤波器、带阻滤波器、宽带抗反射涂层、激光二极管的防反射涂层、超过 100 层的各种复杂光学涂层

• 涂层质量：低缺陷、低光学损耗、低表面粗糙度、低湿度敏感、高附着力、高薄膜密度、高激光损伤阈值