ICPCVD-200 感应耦合等离子体化学气相沉积装置
PECVD-200 带有电容耦合等离子体 (CCP) 装置的等离子体增强化学气相沉积设备
ICPRIE-200 带感应放电等离子体激活 (ICP) 的等离子体化学和反应离子蚀刻装置
RIE-200 利用电容耦合等离子体 (CCP) 激活的反应性离子刻蚀 (RIE) 装置
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