本系统为针对选定波长进行溅射过程全自动光学控制的专用系统，具备高精度的沉积层过程停止控制能力，通过数学算法实现近似测量数据的处理，可对高速移动的衬底进行精准控制，校准参考信号可消除与薄膜沉积过程无关的任何信号变化。

核心特征：沉积层过程停止的高精度、用于近似测量数据的数学算法、可对高速移动的衬底进行控制、校准参考信号可消除无关信号变化、用户友好的界面，支持自动或手动模式工艺操作