DIAMANTA 真空系统用于在硅基片以及硅和锗基片的红外波段 (3-5μm 和 7-14μm) 上沉积耐磨类金刚石碳 (DLC) 涂层，涂层沉积方法为：由离子源等离子体激发的气相化学沉积碳。

• 使用范围：高温计、热像仪、夜视设备、镜片光学系统

• 工艺设备：离子束清洗源、离子束溅射源

• 核心特征：加载锁真空室、全自动流程、单波光监测系统、金刚石涂层特殊工艺