本装置为基于感应耦合等离子体 (ICP) 激活工作气体的气相化学气相沉积系统，用于涂层沉积，可提供多种选项来提升真空系统的功能，实现各种应用任务。

• 核心特征：涂层一致性高、氮气填充系统、涂层的高附着力、与物理气相沉积 (PVD) 方法相比具有更高的沉积速率、全自动 ICP 阻抗匹配系统

• 附加功能 / 选项：集成到洁净室、基片的静电夹持、光发射光谱测量、可在复杂形状基片表面制备高均一性涂层、长维护周期的自清洁功能、向基片底部供应氦气 (He) 的热稳定系统、有射频偏压的基片支架 (可调整等离子体能谱)、恒温器、加热泵送系统、额外的气体管线、用于中和有毒 / 可燃 / 爆炸性气体的洗涤器、气体中和柜、带自动衬底装载机制的加载锁真空室