本装置为基于电子束蒸发技术的真空镀膜系统，适配紫外、可见光、近红外和中红外全波段的镀膜需求，可实现多种光学涂层的高精度制备，支持定制化配置以满足不同应用场景。

• 使用范围：高反射涂层、分束镜、长波透射涂层、激光光学涂层、防反射涂层、各种基片上的红外涂层、紫外线涂层、短波透射涂层

• 可选配置：基片加热系统、电阻蒸发源、基片支架（圆顶或行星机构）、最多 2 个配备不同坩埚的电子束蒸发系统、非标准基片专用支架 (单独订货)、全自动涂层光学参数过程控制系统、各类离子束辅助源 (End-Hall 离子源、RF 离子源)

• 工艺设备：电阻蒸发系统、电子束蒸发系统、清洁和辅助的射频离子束源、清洁和辅助的高频射频离子束源